钽靶材：
材质：纯钽
纯度: ≥99.95%
美标: RO5200，RO5400
标准: ASTM B708
形状: 自定义
清晰度:0.1’’-2’’, 直径r:2”-20”
直径公差: + / - 0.008”
应用：钽靶主要应用于半导体和磁记录等薄膜溅射行业
再结晶：最少95%
晶粒度：最小40μm
表面粗糙度：Ra 0.8 最大
平整度：0.1mm or 0.10% 最大
